暗箱操作光催化降解反應(yīng)儀
更新時(shí)間:2023-06-25型 號(hào): | CY-GHX-AC |
報(bào) 價(jià): | 14520 |
暗箱操作光催化降解反應(yīng)儀川一儀器系列光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱為光化學(xué)反應(yīng)釜,多功能光化學(xué)反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測(cè)定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
CY-GHX-AC暗箱操作光催化降解反應(yīng)儀的詳細(xì)資料:
暗箱操作光催化降解反應(yīng)儀
1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化
2.進(jìn)口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高
3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能,操作簡(jiǎn)便
4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗
5.采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用
6.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光
7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度
8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng),自動(dòng)斷電功能
9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口,內(nèi)部設(shè)有2個(gè)專用插座,供燈源和攪拌反應(yīng)器用
暗箱操作光催化降解反應(yīng)儀
摘要:溫度是化學(xué)反應(yīng)釜生產(chǎn)過程中對(duì)反應(yīng)過程影響Z重要的的因素之一,溫度的控制精度、系統(tǒng)響應(yīng)速度及穩(wěn)定度是衡量溫度系統(tǒng)性能指標(biāo)的關(guān)鍵因素,準(zhǔn)確地控制反應(yīng)釜內(nèi)原料在不同溫度下進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)具有重要意義。先,本系統(tǒng)對(duì)反應(yīng)釜的溫度進(jìn)行分析,得出了冷劑流量對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)溫度的傳遞函數(shù)。其次,通過單片機(jī),利用繼電器、DS18B20溫度傳感器、LCD液晶顯示屏等設(shè)計(jì)了對(duì)反應(yīng)釜進(jìn)行加熱與降溫來(lái)實(shí)現(xiàn)反應(yīng)釜溫度控制的具體電路和實(shí)時(shí)系統(tǒng),對(duì)實(shí)際化學(xué)反應(yīng)過程中的溫度變化進(jìn)行模擬,并利用經(jīng)典控制理論中的PID算法得到反應(yīng)時(shí)的控制,并給出了詳細(xì)的分析步驟和控制算法。Z后,通過組態(tài)軟件對(duì)整個(gè)化學(xué)反應(yīng)過程進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控的模擬。
一、背景及國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
1.1 問題研究背景
在化工生產(chǎn)過程中, 連續(xù)反應(yīng)釜是一種常用的、重要的反應(yīng)容器。其化學(xué)反應(yīng)機(jī)理較為復(fù)雜, 受到外界條件、原料純度、催化劑的類型等諸多因素的影響,所以難以建立J確的數(shù)學(xué)模型, 致使整套設(shè)備的自動(dòng)化水平較低。而且在反應(yīng)釜中進(jìn)行的反應(yīng)一般屬于放熱反應(yīng), 反應(yīng)放熱量大, 傳熱效果卻不理想, 因此反應(yīng)釜內(nèi)溫度一般具有大滯后、非線性等特征。針對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)溫度變化的特點(diǎn), 設(shè)計(jì)良好的溫度控制系統(tǒng)是保證產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。
在我國(guó),盡管大中城市的科學(xué)技術(shù)和工業(yè)自動(dòng)化的發(fā)展比較快,但是在眾多的小城市與農(nóng)村地區(qū)由于經(jīng)濟(jì)不夠發(fā)達(dá),政府扶持力度不夠,存在許多不全的小規(guī)?;どa(chǎn)項(xiàng)目,給人們的人生安全與財(cái)產(chǎn)安全帶來(lái)了yi定的威脅。所以,如何更安全的進(jìn)行化工生產(chǎn)已經(jīng)成為了政府和各種研究機(jī)構(gòu)亟待解決和完善的事。
1.2 國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
目前關(guān)于反應(yīng)釜溫度控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)問題國(guó)內(nèi)外都有一些研究,并且已經(jīng)基本滿足了工業(yè)需求。如Shinskey 與Weinstein 提出的雙模控制(dual-mode),采用 bang-bang+PID 控制,其大致步驟為:過程開始時(shí),全力加熱,直至反應(yīng)釜溫度距其設(shè)定值為t1 度,然后全力冷卻,持續(xù)TD1分鐘,此后,將夾套水溫設(shè)定值定在某個(gè)合適的中間溫度,持續(xù)TD2 分鐘,Z后,用串級(jí)PID 控制器控制夾套水溫度。如果參數(shù)選擇得當(dāng),雙??刂剖怯行У?。
Arthur Jutan 與 Ashok Uppal 提出將反應(yīng)熱作為一種擾動(dòng),采用適當(dāng)?shù)姆椒ü烙?jì)出來(lái),用前饋控制抵消;余下的部分近似為線性系統(tǒng),可以用PID 控制。Barry 與Sandro 采用GMC 方法控制反應(yīng)釜溫度,得到了很好的仿真結(jié)果,并且進(jìn)一步考察了操作條件與過程參數(shù)變動(dòng)時(shí)被控過程的魯棒性,發(fā)現(xiàn)GMC的魯棒性明顯強(qiáng)于雙??刂啤?br style="color: rgb(75, 75, 75); font-family: "Lucida Grande", "Lucida Sans Unicode", "Helvetica Neue", "Hiragino Sans GB", "Microsoft Yahei", sans-serif; white-space: normal; background-color: rgb(255, 255, 255);"/>為適應(yīng)化工生產(chǎn)的新特點(diǎn),一些過程控制領(lǐng)域中的新技術(shù)正在由理論研究轉(zhuǎn)向生產(chǎn)踐,如信息綜合處理技術(shù)、現(xiàn)場(chǎng)總線控制系統(tǒng)、各種智能控制技術(shù)、軟計(jì)算技術(shù)和快速仿真技術(shù)、多媒體技術(shù)等。過程控制采用的技術(shù)工具,由基地式儀表、氣動(dòng)單元式組合式儀表、電動(dòng)單元組合式儀表Ⅰ型、Ⅱ型、Ⅲ型,發(fā)展到現(xiàn)在的可編程單回路、雙回路、三回路調(diào)節(jié)器和分散綜合控制系統(tǒng)(DCS)。當(dāng)前,傳統(tǒng)的DCS 正借助于微處理器硬軟件和通信網(wǎng)絡(luò)技術(shù),朝著標(biāo)準(zhǔn)化、開放化和盡量采用市場(chǎng)通用的優(yōu)良硬、軟件的方向,逐漸地、相互融合地向開放的DCS發(fā)展。如Honeywell 的 TPS,它采用通用的軟件將企業(yè)的internet 網(wǎng)與局部控制網(wǎng)、通用控制網(wǎng)和系統(tǒng)總線連接在一起,配備各種平臺(tái)、操作站以滿足不同層次使用人員的要求。另外,Z近發(fā)展起來(lái)的現(xiàn)場(chǎng)總線網(wǎng)絡(luò)控制系統(tǒng)(FCS)也是一種新的開放式的分布式控制系統(tǒng)。它把封閉協(xié)議變成標(biāo)準(zhǔn)開放協(xié)議,使系統(tǒng)共有數(shù)字計(jì)算和數(shù)字通信能力:在結(jié)構(gòu)上,采用了全分布式方案,把控制功能下放到現(xiàn)場(chǎng),提高了系統(tǒng)靈活性和可靠性:它突破了集散型控制系統(tǒng)DCS 中采用網(wǎng)絡(luò)的缺陷。因此對(duì)于現(xiàn)場(chǎng)總線的工業(yè)控制系統(tǒng)研究具有重大的意義。據(jù)報(bào)道,美國(guó)猶他州鹽湖城Flying 煉油廠、孟山都化工廠、我國(guó)安慶安菱化工廠、吉林油田甲醇廠已采用FCS,取得了明顯的經(jīng)濟(jì)效益。專家估計(jì),F(xiàn)CS 將在石化行業(yè)得到廣泛的應(yīng)用。
二、化學(xué)反應(yīng)釜的過程分析
所謂過程系統(tǒng)是指研究一類以物質(zhì)和能量轉(zhuǎn)換為基礎(chǔ)的生產(chǎn)過程。為了進(jìn)一步改善工藝操作,提高自動(dòng)化水平,優(yōu)化生產(chǎn)過程,加強(qiáng)生產(chǎn)上的管理,需要研究這類過程的描述、設(shè)計(jì)、模擬、仿真、控制和管理,Z終能夠顯著地增加經(jīng)濟(jì)效益。在了解和掌握了工藝流程和生產(chǎn)過程動(dòng)態(tài)的基礎(chǔ)上,需要根據(jù)生產(chǎn)對(duì)控制提出要求。而過程控制就是應(yīng)用控制理論,對(duì)生產(chǎn)過程進(jìn)行綜合分析并設(shè)計(jì)出包括被控對(duì)象、調(diào)節(jié)器、檢測(cè)裝置和執(zhí)行器在內(nèi)的過程控制系統(tǒng),Z后采用合適的技術(shù)手段加以實(shí)現(xiàn)
2.1反應(yīng)釜的基本結(jié)構(gòu) 化學(xué)反應(yīng)釜有間歇式和連續(xù)式兩種。間歇式反應(yīng)釜通常用于液相反應(yīng),而連續(xù)式反應(yīng)釜通常用于均相和非均相的液相反應(yīng)。
反應(yīng)釜由攪拌容器和攪拌機(jī)兩部分組成,攪拌容器包括筒體、換熱元件級(jí)內(nèi)構(gòu)件;攪拌機(jī)由攪拌器、攪拌軸及其密封裝置、傳動(dòng)裝置等組成。
筒體為一個(gè)鋼罐形容器,可以在罐內(nèi)裝入物料,使物料在其內(nèi)部進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。為了維持反應(yīng)釜內(nèi)的反應(yīng)溫度,需要設(shè)置換熱元件。常用的換熱元件為夾套,它包圍在筒體的外部,其與容器外壁形成密閉的空間。在此空間通入冷卻或加熱介質(zhì),通過夾套內(nèi)壁傳熱,可冷卻或加熱容器內(nèi)的物料。為了測(cè)量釜內(nèi)的溫度,在罐內(nèi)裝有鋼制的溫度計(jì)套管,可將溫度計(jì)或溫度傳感器放入其中。為了滿足工藝的需求還可以外接附件裝置。
光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測(cè)定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域
光化學(xué)、干膜、曝光及顯影制程術(shù)語(yǔ)手冊(cè)1、Absorption 領(lǐng)受,吸入
指被領(lǐng)受物會(huì)進(jìn)入主體的內(nèi)部,是一種化學(xué)式的吸入步履。如光化反映中的光能領(lǐng)受,或板材與綠漆對(duì)溶劑的吸入等。還有一近似詞 Adsorption 則是指吸附而言,只附著在主體的概略,是一種物理式的親和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity,or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各類光線中,其Z有用波長(zhǎng)規(guī)模的光而言。例如在360~420 nm 波長(zhǎng)規(guī)模的光,對(duì)偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等,其等反映均Z快Z且功用Z大,謂之有用光。
3、Acutance 解像尖銳度
是指各類由感光編制所取得的圖像,其線條邊緣的尖銳景象抽象 (Sharpness),此與解像度 Resolution 不合。后者是指在必定寬度距離中,可以了了的顯像(Develope)解出若干良多多少組“線對(duì)"而言(Line Pair,系指一條線路及一個(gè)空間的組合),普簡(jiǎn)易稱只說(shuō)解出機(jī)條“線"而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增進(jìn)劑
多指干膜中所添加的某些化學(xué)品,能促使其與銅面發(fā)生“化學(xué)鍵",而增進(jìn)其與底材間之附出力者皆謂之。
5、Binder 粘結(jié)劑
各類積層板中的接著樹脂部份,或干膜之阻劑中,所添加用以“成形"而不致太“散"的接著及組成劑類。
6、Blur Edge(Circle)恍惚邊帶,恍惚邊圈
多層板各內(nèi)層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準(zhǔn)度搜檢時(shí),可把持 X光透視法為之。由于X光之光源與其機(jī)組均非平行光之機(jī)關(guān),故所得圓墊(Pad)之減少回憶,其邊緣之解像其實(shí)不明銳了了,稱為 Blur Edge。
7、Break Point 出像點(diǎn),顯像點(diǎn)
指制程中已有干膜貼附的“在制板",于自動(dòng)保送線顯像室上下噴液中遏制顯像時(shí),抵達(dá)其完成沖洗而閃現(xiàn)出了了圖形的“旅程點(diǎn)",謂之“Break Point"。所經(jīng)歷過的沖洗旅程,以占顯像室長(zhǎng)度的 50~75% 之間為好,如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗,更能增強(qiáng)斷根殘膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧燈
晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時(shí),為其曝光所用的光源之一,是在中心迫近的碳精棒之間,施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。