CY-GHX-AC紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學(xué)催化反應(yīng)釜的詳細(xì)資料：

紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學(xué)催化反應(yīng)釜

1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化

2.進(jìn)口光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器，功率連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性高

3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能，操作簡(jiǎn)便

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗

5.采用內(nèi)照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用

6.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動(dòng)斷電功能

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口，內(nèi)部設(shè)有2個(gè)專用插座，供燈源和攪拌反應(yīng)器用

光化學(xué)反應(yīng)儀工作原理：
光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。
光化學(xué)反應(yīng)儀也可稱為光催化反應(yīng)儀、光解水反應(yīng)儀、光降解反應(yīng)儀、光化學(xué)反應(yīng)釜、光化學(xué)反應(yīng)裝置、光解水反應(yīng)裝置等等。
光化學(xué)反應(yīng)儀種類分析：
多試管（小試管）光化學(xué)反應(yīng)儀、大試管光化學(xué)反應(yīng)儀、多功能光化學(xué)反應(yīng)儀。
光化學(xué)反應(yīng)儀應(yīng)用范圍：
應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
光化學(xué)反應(yīng)儀主要特征：
1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化；
2.光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器，功率連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性高；
3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能，操作簡(jiǎn)便；

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗；
5.采用內(nèi)照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用；
6.配有大功率磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光；
7.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度；
8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動(dòng)斷電功能；

紫光源暗箱降解反應(yīng)儀 光化學(xué)催化反應(yīng)釜

1、 準(zhǔn)備工作：連接電源。使用該儀器前先把八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)放入主機(jī)箱內(nèi)，石英反應(yīng)管(或反應(yīng)容器)內(nèi)放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈(氙燈)、反應(yīng)器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好。(如下圖連接)

　　2、 反應(yīng)暗箱內(nèi)設(shè)有八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)和燈的電源接口，請(qǐng)按指示連接。

　　3、調(diào)節(jié)控制器上面的光源選擇，使所使用光源與控制器上面的保持一致(按光源種類和功率大小區(qū)分)

　　4、依次打開(kāi)控制器上面的風(fēng)扇開(kāi)關(guān)、反應(yīng)器和燈開(kāi)關(guān)，風(fēng)扇開(kāi)始工作(反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開(kāi)始外排。

　　5、打開(kāi)八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)上面的電源開(kāi)關(guān)，按需調(diào)節(jié)攪拌速度。

　　6、光源功率調(diào)節(jié)位于控制器中心位置，可按需調(diào)節(jié)光源功率大小。

　　7、控制器右上方設(shè)有微電腦定時(shí)器，可按需設(shè)置工作時(shí)間。

　　注：無(wú)論使用汞燈或氙燈做實(shí)驗(yàn)時(shí)，將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用(建議同時(shí)配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用，避免溫度過(guò)高造成儀器損壞)。