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光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-AC光催化降解裝置

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-AC光催化降解裝置

更新時(shí)間:2020-12-10
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光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-AC光催化降解裝置,光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱為光化學(xué)反應(yīng)釜,多功能光化學(xué)反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù),測(cè)定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-AC光催化降解裝置的詳細(xì)資料:

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-AC光催化降解裝置

技術(shù)參數(shù):

型號(hào):CY-GHX-AC多試管控溫光化學(xué)反應(yīng)儀

(一)主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

(二)小容量反應(yīng)部分

1.石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做)。

2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品(或定做)。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。

(三)控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W

2.控溫范圍:-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

 

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-AC光催化降解裝置

光化學(xué)的初級(jí)過(guò)程是分子吸收光子使電子激發(fā),分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動(dòng)與轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)都是量子化的,即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時(shí)的初始狀態(tài)與終止?fàn)顟B(tài)不同時(shí),所要求的光子能量也是不同的,而且要求二者的能量值盡可能匹配。
光物理過(guò)程可分為輻射弛豫過(guò)程和非輻射弛豫過(guò)程。輻射弛豫過(guò)程是指將全部或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過(guò)程,如發(fā)射熒光或磷光;非輻射弛豫過(guò)程是指多余的能量全部以熱的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過(guò)程。
決定一個(gè)光化學(xué)反應(yīng)儀的真正途徑往往需要建立若干個(gè)對(duì)應(yīng)于不同機(jī)理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強(qiáng)及其他有關(guān)參量間的動(dòng)力學(xué)方程,然后考察實(shí)驗(yàn)結(jié)果的相符合程度,以決定哪一個(gè)是可能的反應(yīng)途徑。一旦被反應(yīng)物吸收后,不會(huì)在體系中留下其他新的雜質(zhì),因而可以看成是“純”的試劑.

 

  汞燈的發(fā)光部位為石英管,手直接接觸會(huì)造成污染而影響光強(qiáng)。石英器皿外部常用干凈脫脂棉沾取少量酒精擦凈,清洗內(nèi)部則用洗液。

光源反應(yīng)器,是我公司研制的一種新型反應(yīng)器,該產(chǎn)品在全國(guó)各大高校實(shí)驗(yàn)室推廣試用效果良好,深受用戶好評(píng)。

1、采用8套磁力攪拌裝置,搭配8套全石英材料試管,為客戶提供8種不同式樣實(shí)驗(yàn)容器,適合多式樣品的實(shí)驗(yàn)和采集。

2、本機(jī)主要部件選材優(yōu)良,電機(jī)選用直流大功率電機(jī),攪拌力矩大﹑噪音小。磁鋼選用目前磁力強(qiáng)的“釹鐵蹦水磁做轉(zhuǎn)子,確保足夠的吸力和扭矩。

 

儀器設(shè)備的高負(fù)荷使用,往往容易發(fā)生意外故障,特別是光學(xué)儀器若因維護(hù)和使用不當(dāng)而起霧,就不能發(fā)揮儀器的正常作用,而帶來(lái)工作上的障礙。所以高效的維護(hù)管理儀器設(shè)備已成為當(dāng)今企事業(yè)單位有效降低成本,提高勞動(dòng)生產(chǎn)率的有效手段。目前國(guó)內(nèi)企業(yè)設(shè)備維護(hù)管理一般還停留在被動(dòng)的搶修作業(yè)模式,即當(dāng)儀器設(shè)備發(fā)生故障,無(wú)法繼續(xù)使用時(shí),維修人員才在*短時(shí)間內(nèi)將故障排除,而當(dāng)沒(méi)有發(fā)生故障時(shí),維修人員只是空閑,所以這樣的管理模式是談不上效率的,因此,儀器設(shè)備的管理也應(yīng)做好計(jì)劃,同樣設(shè)備維護(hù)管理也需要把非計(jì)劃性的工作轉(zhuǎn)化為計(jì)劃性的工作。如果我們定期的檢查保養(yǎng)來(lái)減低故障的發(fā)生,特別是做好儀器的"三防"工作,避免搶修工作,保證儀器隨時(shí)能投入正常的作用,這就是一種主動(dòng)的方式。 


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